Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology - Seiji Samukawa - Bøger - Springer Verlag, Japan - 9784431547945 - 17. februar 2014
Ved uoverensstemmelse mellem cover og titel gælder titel

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology 2014 edition

Seiji Samukawa

Pris
HK$ 545

Bestilles fra fjernlager

Forventes klar til forsendelse 1. - 7. jul.

Vores kunder siger:

14 dages fuld returret
Topvurdering på Trustpilot
Tilføj til din iMusic ønskeseddel
Eller

Feature Profile Evolution in Plasma Processing Using On-wafer Monitoring System - SpringerBriefs in Applied Sciences and Technology 2014 edition

Three types of sensors are introduced: on-wafer UV sensors, on-wafer charge-up sensors and on-wafer sheath-shape sensors in the plasma processing and prediction system of real etching profiles based on monitoring data.

40 pages, 30 Illustrations, color; 5 Illustrations, black and white; VIII, 40 p. 35 illus., 30 illus

Medie Bøger     Paperback Bog   (Bog med blødt omslag og limet ryg)
Udgivet 17. februar 2014
ISBN13 9784431547945
Forlag Springer Verlag, Japan
Antal sider 40
Mål 155 × 235 × 222 mm   ·   86 g
Sprog Engelsk  

Se alt med Seiji Samukawa ( f.eks. Paperback Bog )